等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子來達到傳統清洗方法無法達到的效果。等離子體是一種物質狀態，也稱為第四種物質狀態。向氣體施加足夠的能量使其電離，使其變成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、受激核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機就是利用這些活性成分的特性來處理樣品表面，從而達到清洗等目的。
 

　　等離子清洗機中產生等離子體的裝置是將兩個電極放置在一個密封的容器中形成電場，用真空泵實現一定的真空度。隨著氣體變得越來越薄，分子間距和分子或離子的自由運動距離變得越來越長。在正負極電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。這些離子具有足夠高的活性和能量來破壞幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面上引起化學反應。不同氣體的等離子體具有不同的化學性質。例如，氧等離子體具有高氧化性能，可以氧化光刻膠產生氣體，從而達到清洗效果。腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性，能夠滿足刻蝕的需要。輝光是在等離子體處理過程中發出的，因此被稱為輝光放電處理。
 

　　等離子清洗機主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應機理而言，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發成等離子體狀態;氣相物質吸附在固體表面;被吸附的基團與固體表面分子反應生成產物分子;分析產物分子以形成氣相;反應殘留物從表面分離。等離子清洗機的特點是它可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環氧樹脂甚至聚四氟乙烯，而不管要處理的基材類型如何。它還可以清潔整體、局部和復雜的結構。
 

　　等離子清洗機的等離子清洗可以與處理對象無關地進行。它可以處理各種材料，無論是金屬、半導體、氧化物還是聚合物材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂和其他聚合物)都可以用等離子體處理。因此，它特別適用于不耐熱和耐溶劑的材料。還可以選擇性地對材料的整體、局部或復雜結構進行局部清洗。當清潔和去污完成時，材料本身的表面性能可以得到改善。例如改善表面的潤濕性和改善膜的粘附性，這在許多應用中是非常重要的。