等離子體清洗的結構組成

等離子清洗機的結構組成

  等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

  等離子清洗機的結構主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個部分做一個陳述： 

一、控制單元： 

  目前國內使用的等離子清洗機，包括國外進口的，控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。 

   控制單元又分為啷個大的部分：

     1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的，而2.45GHz又稱為微波等離子，主要的功能作用，前面已經提到了，這里就不一一介紹了。

     2）系統控制單元：分三種，按鈕控制（半自動、全自動）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制）。 

二、真空泵： 

   真空泵分為兩種：1）干泵 、2）油泵  

三、真空腔體： 

    真空腔體主要是分為兩種材質的：1）不銹鋼真空腔體，2）石英腔體。